英国《金融时报》报道，华为正被指在中国国产深紫外光（DUV）光刻机产业链中扮演协调角色，业务布局从整机延伸至关键零部件，包括光学镜头和光源，并推动国产设备进入中芯国际等晶圆厂进行测试。
其中，上海业者宇量昇与华为共同开发的首台国产先进DUV光刻机，已经在中芯国际及华为自身生产线上接受测试，未来目标是用于先进AI芯片制造。据知情人士透露，宇量昇由与华为关系密切的新凯分拆成立，目前也与上海微电子装备（SMEE）合作开发多款DUV原型设备。
在实际验证方面，中芯国际据称已测试宇量昇的28纳米设备，并通过多重曝光技术生产7纳米芯片。不过，国产设备距离达到荷兰阿斯麦（ASML）同类机台的生产效率仍有差距，业界认为还需要数年时间进行持续验证、调校及提升稳定性。
伯恩斯坦半导体分析师林清远认为，华为在国产DUV产业发展中更像是负责“项目管理”的角色。由于光刻机涉及庞大的供应链和客户体系，仅有原型机并不足以实现商业化，华为需要协调大量供应商与晶圆厂共同优化设备。此外，华为旗下哈勃投资及其支持的深圳远致星火，也已投资福建至期光子等超精密光学企业，布局光刻机投影镜头与高功率光源等关键环节。
不过，目前中国国产DUV设备仍无法完全摆脱海外技术。宇量昇使用的投影镜头据称仍来自德国蔡司（Zeiss），而中芯国际虽然已采购及测试国产DUV设备，量产仍主要依靠ASML机台。长鑫存储（CXMT）及长江存储（YMTC）据报道也已储备足以支持未来数年扩产的ASML DUV设备，显示中国晶圆厂仍采取国产设备验证与海外设备维持量产并行的策略；林清远认为，美国出口管制反而可能加快中国晶圆厂与本土设备商合作及国产替代进程。
