中国半导体自主化再传进展，一家鲜为人知的中国国企据报已经开始量产国产浸润式深紫外（DUV）光刻机。这项设备是芯片制造的重要工具，虽然目前技术水平仍与荷兰ASML存在明显差距，但若未来成功扩大应用，将为中国芯片厂商增加本土设备选择。
据知情人士透露，上海爱盛纳电子科技集团正主导相关生产工作，并吸纳了中国多家光刻设备研发团队。该公司于2023年8月成立，注册资本达70亿元人民币，由上海电气控股及上海国际信托旗下公司两家国企股东支持。由于公司鲜少对外披露业务资料，目前外界对其具体运营情况所知不多。
市场关注的是，浸润式DUV光刻机可通过镜头与硅晶圆之间加入水层，以制造比传统干式设备更细小的电路图案。这类设备能够生产广泛类型的芯片，并可通过多重曝光技术制造更先进的半导体。相关设备预计今年开始交付给中芯国际、华虹半导体及长鑫存储等中国主要芯片企业。
不过，国产DUV光刻机距离大规模商业化仍有一段距离。知情人士指出，爱盛纳设备还需要进一步测试，整体性能暂时无法与ASML同类产品相比。真正投入高量产环节，还必须在晶圆良率、套刻精度、生产速度及长期稳定性等方面达到严格要求，因此短期内尚不足以对ASML构成直接商业威胁。
但从战略层面来看，这项进展仍具有重要意义。美国限制中国取得ASML最先进的EUV设备，荷兰方面也限制部分先进DUV设备出口，中国因此持续推动半导体设备国产化。此前中国也被报道已完成EUV原型机开发，不过距离量产仍需多年。分析人士认为，即使目前国产浸润式DUV设备数量有限，只要后续技术持续成熟，在西方进一步收紧设备出口或维修服务的情况下，中国芯片制造商将拥有更多自主供应渠道。
