韩国一家半导体企业前员工因涉嫌将芯片制造技术机密泄露给中国企业，最终被判入狱18个月。韩国首尔高等法院近日审理上诉案件后，维持下级法院原判，让这起涉及半导体产业技术外泄的案件再次受到关注。
涉案男子过去曾在SK海力士（SK Hynix）中国办公室任职，并于2022年接触及带走公司内部服务器上的机密资料。法院认定，他违反公司保安规定，将涉及商业秘密的文件打印出来或拍照保存，随后把部分资料交给一家中国企业。
有关资料涉及互补式金属氧化物半导体（CMOS）影像传感器制造技术，属于非记忆体芯片领域，相关技术可应用于智能手机相机及笔记本电脑等电子产品。由于半导体制造技术涉及企业核心竞争力，相关机密一旦外泄，可能影响企业在全球市场的技术优势。
根据韩国媒体报道，涉案男子甚至把部分机密内容写入提交给中国企业的履历中，以展示自身工作经验及技术能力。不过，报道没有披露有关中国企业的名称。被告最终承认所有控罪，而SK海力士也成功追回大部分被带走的资料。
首尔高等法院最终维持18个月监禁的判决。案件也反映出，在全球半导体竞争持续升温之际，企业内部技术资料及员工离职后的信息管理正面临更大风险，尤其是涉及高端芯片制造、设备及生产工艺等核心技术的企业，技术保密已成为产业竞争中的重要防线。
